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废气进入设备后，首先通过高能离子区域，废气分子及空气被【高能离子轰击，废气分子被轰击为小分子及CO₂和水，空气分子中的氧气及水分子被轰击后转变为臭氧、羟基自由基等活性氧分子，这些活性氧分子继续氧化废气分子为易降解的小分子有机物或CO₂和水。之后废气分子进入光催化氧化区域，UV灯照射TIO2催化网，产生光子，与空气反应产生具有强氧化性的羟基自㊣　由基和臭氧等活性氧分子，废气分子被彻底氧化废气分子为CO2和水。最后剩余的废气分子被活性炭吸附捕捉去除。

1、 高能离子工作原理

高能离子体是继固态、液态、气态之后的物质的第四态，当外ω加电压达到气体的着火电压时，气体被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电︻过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度∞很低，整个体系呈现低温状态，所以称为高能离子体。高能离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的◆各种反应以达到分解污染物的目的。

在“高能离子工业废气净化模块”系列产品是利用产生的高能高能离子激活、电离、裂解废气※中的各种成份，从而发生≡一 系列复杂︾的化学反应，将有害物转化为洁净的无害的物质达标排放至大自然。
气体经过高能离子处理装置的反应器区域时，高卐能电子和自由基强氧化等多重作用下，气体中的有机物分子链被断开，发生一系列复杂的氧化还原反应，生成 CO2、H2O 等无害物质，正负离子可以清新空气。另外，借助高能离子体中的离子与物体的凝聚作用，可以对有机▂废气中小至亚微米级的细微颗粒物（0.1-3 微米）进行有效的收集去除。
    废气组分去除过程如下：

过程一：高能电子的直接轰击

过程二：O原子或々臭氧的氧化 
           O₂+e→2O
? 过程三：OH自由基的氧化
            H₂O+e→OH+H
            H₂O+O→2OH
            H+O₂→OH+O
    过程四：分子碎片+氧气的反应

2、 光催化〖氧化工作原理

光催化是利用二氧化钛（TiO2）作为催化剂的光▲催化过程，反应条件温和，光解迅速，产物为二氧化碳（CO2）和水（H2O）或其它，而且适用范围广，包括烃、醇、醛、酮、氨等有♀机物，都能通过二氧化钛光催化清除。其机理主要是光催化剂◆二氧化钛吸收光子，与周围的水和氧气发生作用，结合生成羟基自由基(·OH)和活性氧物∴质（·O，H2O2），其中羟基自由基(·OH)是活性高，氧化性强，能迅速有效地分解︼挥发性有机物，再加上其它活性氧物质(·O，H2O2)的协同作用，效果更为明显。

光催∮化氧化原理图

不同类型有机物的光催化降解

3、 活性炭工作原╱理

活性炭的吸附可分为物理吸附和化学吸附。

1） 物理吸附

主要发生在活性炭去除气相中杂质的过程中。活性炭的多孔结构提供了大量的表面积，从而使其非常容易达到吸收收集杂质的目的。就象磁力一样，所有的分子之间都具有相互引力。正因为如此，活性炭孔壁上的大量的分子可以产生强大的引力，从而达到将介质中的杂质吸引到孔径】中的目的。

2）化学吸附

除了物理吸附之外，化学反应也经常发Ψ生在活性炭的表面。活性炭不仅含碳，而且在其表面含有少量的化学结合、功能团形式的氧和氢，例如羧基、羟基、酚类、内脂类、醌类、醚类等。这些表↘面上含有地氧化物或络合物可以与被吸附的物质发生化⊙学反应，从而与被吸附物质结合聚集到活性炭的表面。 

活性炭的吸附正是上述二种吸附综合作用的结果。

待〓净化的气体进入箱式活性碳吸附装置进行废气处理，活性∩炭依靠自身独特的空隙结构，内部孔隙结构发达、比表面积大、吸附能力强，使其具有强大的吸◣附功能，另外分子之间存在范德华力，当一个分子被活性炭内孔捕捉进入到活性炭孔隙中后，会导致更多分子不断被吸引，直至孔隙饱和，因此臭气进入该ζ装置后，废气分子被活性炭吸附床吸附，气体从而得到净化。

1）主要针对含有※挥发性有机物的气体；

2）可在室温下与催化剂反应，无需加热，极大地节约了能源；

3）介质阻挡放电产生高能电子，高能离子体密度大，几乎可以和所有的异味组分反应，无二次污染卐；

4）反应速度快，气体通过反应区的速度达到3-15米/秒，即达到很好的处理效果；

5）气体通过部分采用防腐材料，电极与废→气不直接接触，不会产生设备腐蚀问题；

6）自动化程度高↙，操作简便，启停快，随用随开；

7）三级处理，处理效果稳定。

化工行业

喷漆行业

印刷行业

其他行业中低浓度▃有机废气